Fabricació de nanoestructures plasmòniques tridimensionals

En aquest article es demostra l'ús de la deposició induïda per un feix d'electrons focalitzat (FEBID) per a la fabricació de nanoestructures d'or per a aplicacions d'òptica de plasmons. S'investiguen els efectes del material del substrat i dels
paràmetres de deposició, com ara el corrent del feix i la pressió de vapor d'aigua, sobre el ritme de creixement i la puresa de l'or. S'ha emprat una recuita ex situ de la mostra com a mètode de millora de la puresa del material dipositat. Les
mesures òptiques de dispersió sobre les estructures purificades evidencien que suporten plasmons de superfície localitzats.
Aquest mètode de fabricació permet el creixement d'estructures plasmòniques amb una elevada relació d'aspecte i facilita l'escriptura en superfícies no planes.